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半導(dǎo)體 ( semiconductor) ,指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體 (conductor) 與絕緣體 (insulator) 之間的材料。半導(dǎo)體在收音機、電視機以及測溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制,范圍可從絕緣體至導(dǎo)體之間的材料。無論從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來看,半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。今日大部分的電子產(chǎn)品,如計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)連。常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等,而硅更是各種半導(dǎo)體材料中,在商業(yè)應(yīng)用上最具有影響力的一種。
半導(dǎo)體( semiconductor ),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體 (conductor) 與絕緣體 (insulator) 之間的材料。半導(dǎo)體在收音機、電視機以及測溫上有著廣泛的應(yīng)用。
物質(zhì)存在的形式多種多樣,固體、液體、氣體、等離子體等。通常把導(dǎo)電性差的材料,如煤、人工晶體、琥珀、陶瓷等稱為絕緣體。而把導(dǎo)電性比較好的金屬如金、銀、銅、鐵、錫、鋁等稱為導(dǎo)體??梢院唵蔚陌呀橛趯?dǎo)體和絕緣體之間的材料稱為半導(dǎo)體。與導(dǎo)體和絕緣體相比,半導(dǎo)體材料的發(fā)現(xiàn)是最晚的,直到 20 世紀(jì) 30 年代,當(dāng)材料的提純技術(shù)改進以后,半導(dǎo)體的存在才真正被學(xué)術(shù)界認(rèn)可。
本征半導(dǎo)體:不含雜質(zhì)且無晶格缺陷的半導(dǎo)體稱為本征半導(dǎo)體。在極低溫度下,半導(dǎo)體的價帶是滿帶(見能帶理論),受到熱激發(fā)后,價帶中的部分電子會越過禁帶進入能量較高的空帶,空帶中存在電子后成為導(dǎo)帶,價帶中缺少一個電子后形成一個帶正電的空位,稱為空穴??昭▽?dǎo)電并不是實際運動,而是一種等效。電子導(dǎo)電時等電量的空穴會沿其反方向運動 。它們在外電場作用下產(chǎn)生定向運動而形成宏觀電流,分別稱為電子導(dǎo)電和空穴導(dǎo)電。這種由于電子 - 空穴對的產(chǎn)生而形成的混合型導(dǎo)電稱為本征導(dǎo)電。導(dǎo)帶中的電子會落入空穴,電子 - 空穴對消失,稱為復(fù)合。復(fù)合時釋放出的能量變成電磁輻射(發(fā)光)或晶格的熱振動能量(發(fā)熱)。在一定溫度下,電子 - 空穴對的產(chǎn)生和復(fù)合同時存在并達到動態(tài)平衡,此時半導(dǎo)體具有一定的載流子密度,從而具有一定的電阻率。溫度升高時,將產(chǎn)生更多的電子 - 空穴對,載流子密度增加,電阻率減小。無晶格缺陷的純凈半導(dǎo)體的電阻率較大,實際應(yīng)用不多。
半導(dǎo)體其實是一種開關(guān)電路,原材料由稀有金屬組合而成,在一定條件下,就能通電。所謂的稀有金屬原材料主要是硅跟鍺這兩種,分為 NPN 和 PNP 兩種組合方式。
集成電路就是把很多的半導(dǎo)體組合在一個電路板上使用,所謂集成在一起,就是集成電路了。
半導(dǎo)體集成電路(英文名: semiconductor integrated circuit ),是指在一個半導(dǎo)體襯底上至少有一個電路塊的半導(dǎo)體集成電路裝置。
半導(dǎo)體集成電路是將晶體管,二極管等等有源元件和電阻器,電容器等無源元件,按照一定的電路互聯(lián), “集成”在一塊半導(dǎo)體單晶片上,從而完成特定的電路或者系統(tǒng)功能。
芯片就是把集成電路,通過技術(shù)把它縮小到指甲大的尺寸,或者更小,然后生產(chǎn)再封裝起來使用。
半導(dǎo)體集成電路是指在半導(dǎo)體基板上,利用氧化、蝕刻、擴散等方法,將眾多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上,以完成某一特定邏輯功能(例如: AND 、 OR 、 NAND 等), 進而達成預(yù)先設(shè)定好的電路功能。半導(dǎo)體的生產(chǎn)工藝要求高,涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種復(fù)雜工藝,生產(chǎn)半導(dǎo)體的過程會產(chǎn)生大量的廢水, 半導(dǎo)體廢水污染物種類多,成分復(fù)雜,通常包括多種重金屬廢水,有機廢水以及硅和氟廢水;同時半導(dǎo)體 PCW 系統(tǒng)的制程冷卻水須過濾處理以回用(見水處理應(yīng)用)。
清洗工藝及廢水來源
工藝 |
清潔源 |
容器 |
清潔效果 |
剝離光刻膠 |
氧等離子體 |
平板反應(yīng)器 |
刻蝕膠 |
去聚合物 |
硫酸 : 水 =6:1 |
溶液槽 |
除去有機物 |
去自然氧化層 |
氟化氫 : 水 <1:50 |
溶液槽 |
產(chǎn)生無氧表面 |
旋轉(zhuǎn)甩干 |
氮氣 |
甩干機 |
無任殘留物 |
RCA1#( 堿性 ) |
氫氧化銨 : 過氧化氫 : 水 =1:1:1.5 |
溶液槽 |
除去表面顆粒 |
RCA2#( 堿性 ) |
氯化氫 : 過氧化氫 : 水 =1 : 1 : 5 |
溶液槽 |
除去重金屬粒子 |
DI 清洗 |
去離子水 |
溶液槽 |
除去清洗溶劑 |
問題描述
1. 產(chǎn)生廢水量大;
2. 廢水成復(fù)雜,含有各種過渡性質(zhì)的金屬如硅、鍺等,同時含有較高含量的氟;
3. 廢水中含有難以處理的較高濃度的 COD 。
相關(guān)資料:
半導(dǎo)體工廠廢水氨氮處理的運行控制和工藝優(yōu)化;
半導(dǎo)體含硅廢水形成動態(tài)膜的影響因素研究;
半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水處理及回用技術(shù)介紹;
相關(guān) 設(shè)備:
技術(shù)支持:
過濾機理和形式 ;
過濾的種類及模式 ;
過濾機理 ;